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EVG850SOI和直接键合的自动生产键合系统半导体SOI材料键合300mm晶圆

更新时间:2024-04-10 10:50:02 信息编号:139638075
EVG850SOI和直接键合的自动生产键合系统半导体SOI材料键合300mm晶圆
3000000≥ 1台
  • 3000000.00 元

  • EVG

  • 奥地利

  • SOI键合机,SOI材料键合设备,高量产SOI键合设备,SOI 键合晶圆设备

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详情介绍

产品别名
SOI制作设备,材料键合设备,全自动SOI键合设备,SOI材料品牌
面向地区
全国
品牌
EVG
产地
奥地利
适用工件
平面
自动化程度
全自动
打印方向
双向打印

EVG850SOI和直接键合的自动生产键合系统半导体SOI材料键合300mm晶圆

更多技术咨询及资料联系: 娄先生
EVG850SOI和直接键合的自动生产键合系统
SOI是制作更快更的微电子产品的一种新兴的微电子材料。晶圆Bondding是SOI晶圆制作过程的一个关键技术,在绝缘衬底上实现了的单晶硅薄片。EVG850 SOI Bonding 系统,把SOI Bonding工艺中清洗、预对准和红外检测结合到一起。因此,EVG850
无间隙的高量产晶圆尺寸可达300mm。作为高量产,率环境下,EVG 850 被作为SOI晶圆市场的行业标准
特点:
建立在高量产益环境中运作的生产系统
全自动的cassette-to-cassette或FOUP-to-FOUP可选
背面处理
兆声或者刷子清洗
带平面或者槽口的机械预对准(两种方式)
的远程诊断
晶圆/基板尺寸:100 - 200 mm, 150 - 300 mm
预键合腔:
对齐方式:平面对平面或槽口对槽口。
定位精度: X and Y: ±50 µm, Theta: ±0.1°
Bond 力:高达5 N
键波起始位置:柔软的(卷起) 从晶片边缘到中心的
真空系统:9x10-2mbar(标准)和9x10-3mbar(涡轮泵的选择)
清洗站:
开室、旋转器和清洗臂
室:由PP或PFA制成(可选)
清洗介质:去离子水(标准)、其他清洗介质(可选)
旋转盘:真空吸盘(标准)和边缘处理夹具(选项)由金属清制作的无离子洁材料
旋转:高达3000rpm,5S上升到3000rpm

上海螣芯电子科技有限公司 9年

  • 微电子封装设备,前道工艺设备,芯片工艺设备,检测类设备
  • 上海青浦新城城东新村104号

———— 认证资质 ————

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