氮化硅陶瓷防磨块特性之高硬度等静压
氮化硅陶瓷应用范围
氮化硅陶瓷（Si3N4）是一种重要的结构材料，它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，耐高温等，在许多工业领域有着广泛的应用，其中一种较为重要的应用就是轴承材料。
氮化硅陶瓷特点
氮化硅是六方晶系晶体,呈六面体正八面体的两个顶是Si，四个N就是八面体的中间平面的4个点，然后以这四个N产生的平面的中心，就是后三个Si了一定要确认每个Si都连着四个N，每个N都连着3个硅，N-N之间没有连接。α型氮化硅是为六方密堆积结构。
氮化硅陶瓷在含少量氢气的氮气中灼烧二氧化硅和碳的混合物;将SiCl4的氨解产物Si(NH2)4完全热分解氮化硅可用作催化剂载体、耐高温材料、涂层和磨料等。
氮化硅陶瓷在空气中刚开始空气氧化的温度1300~1400℃。
尺寸精度：高可达0.003㎜
光洁度：高可达Ra0.03
同心度：高可达0.003㎜
平行度度：高可达0.003㎜
内孔：小可加工0.04㎜
直槽：窄可加工0.1㎜
厚度尺寸：小可加工0.1㎜
螺纹：小可加工内螺纹M2，外螺纹不限
氮化硅陶瓷生产制造流程
成型过程：注射成型工艺是将瓷粉和有机粘接剂混合后,在130~300度温度下,将混合料注入到金属模腔内,冷却后混合料固化取出的一种成型方法。
烧结过程：常压烧结法（ PLS)在提高烧结氮气氛压力方面，利用Si3N4 分解温度升高（通常在N2 = 1atm气压下，从1800℃开始分解）的性质，在1700———1800℃温度范围内进行常压烧结后，再在1800———2000℃温度范围内进行气压烧结该法目的在于采用气压能促进Si3N4 陶瓷组织致密化，从而提高陶瓷的强度.所得产品的性能比热压烧结略低这种方法的缺点与热压烧结相似。
加工过程在工业生产的某些领域,仅靠磨削是达不到陶瓷件表面光洁度要求的,通常要采用研磨和抛光。另一方面,陶瓷材料韧性较小,脆性较大,其强度很容易受表面裂痕的影响加工表面愈粗糙,表面裂纹愈大,愈易产生应力集中,工件强度愈低因此,研磨不仅是为了达到一定的粗糙度和高的形状精度,而且也是为了提高工件的强度。
