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氮化硅陶瓷坩埚特性之干压

更新时间:2022-07-21 09:15:42 信息编号:e3123sd2lb93ce
氮化硅陶瓷坩埚特性之干压
500≥ 10件
  • 500.00 元

  • 绝缘装置陶瓷

  • 氮化硅陶瓷

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详情介绍

氮化硅陶瓷坩埚特性之干压

产品别名
陶瓷坩埚
面向地区
全国
功能
绝缘装置陶瓷
氮化硅陶瓷应用范围
氮化硅复合材料:耐高温、低介电、抗蠕变用于制作抗氧化的天线罩氮化硅薄膜:优良的光电性能、很高的化学稳定性,抗杂质扩散和水汽渗透能力强氮化硅陶瓷球:高硬度、高耐磨性、耐腐蚀、耐高温、重量轻、加工精度高、自润滑性、绝缘性是陶瓷轴承、混合陶瓷球轴承的材质。


氮化硅陶瓷特点
氮化硅是一种共价化合物,所以原子之间以较强的共价键相互结合,所以它具有很高的硬度及熔点。
氮化硅具备的有机化学特性,可耐除盐酸之外的全部强氧化剂和25%下列的氢氧化钠溶液水溶液浸蚀它耐空气氧化的温度达到1400℃,在复原氛围中大可应用到1870℃,对金属材料(非常是AL液)特别是在对非金属材料不湿润。
氮化硅陶瓷在空气中开始氧化的温度1300~1400℃。


尺寸精度:高可达0.003㎜
光洁度:高可达Ra0.03
同心度:高可达0.003㎜
平行度度:高可达0.003㎜
内孔:小可加工0.04㎜
直槽:窄可加工0.1㎜
厚度尺寸:小可加工0.1㎜
螺纹:小可加工内螺纹M2,外螺纹不限
氮化硅陶瓷生产制造流程


成型过程:轧膜成形:一种瓷器坯片的成形方式 先把颗粒料和有机化学粘结剂混和匀称,随后把它们倒在2个反方向翻转的轧辊上不断开展混练,使粘结剂和颗粒料充足分布均匀,有机溶剂逐渐蒸发(必需时能开电扇加快其蒸发),胚料由稀到稠,直到不粘轧辊混练好的胚料历经折迭、倒向、不断开展粗轧,将在其中汽泡清除,以得到匀称一致的膜层,再慢慢变小轧辊间的间隔开展精扎,使之变成需要的塑料薄膜(薄厚达到十μm至毫米)。流延成形:别称连续式浇筑,刮板法,一种陶瓷产品的成形方式 ,先把破碎好的颗粒料与有机化学塑化剂水溶液按适度配制混和做成具备一定粘度的料浆,料浆从器皿同流下来,被刮板以一定薄厚刮压涂覆在型基带芯片上,经干躁、干固后从上撕下变成生胚带的塑料薄膜,随后依据制成品的规格和样子对生胚带作剪压、层合等生产加工解决,做成待煅烧的毛胚制成品。
烧结过程:热压和热等静压烧结,可生产出强度和密度足以满足多种用途的制品,但它们只能生产形状较简单的制品,或者要求使用的封装方法,如包套等,但是费用较昂贵;反应烧结法虽然可满足成本要求,但产品孔隙度高,具有较低的抗弯强度和抗氧化性作为实用价值较大的一种方法,氮化硅陶瓷的无压烧结正日益受到重视,它可以经济、批量地制造各种产品,与过去的几年相比,无压烧结氮化硅陶瓷的性能已有了很大程度的提高[12-14],这就使氮化硅陶瓷得到广泛应用氮化硅具有强共价键结构,它的烧结非常困难,要想采用无压烧结的工艺达到一定的性能要求有相当的难度氮化硅材料即便在高温下,氮和硅的体扩散系数也很小,与此同时在1600℃以上,氮化硅就会明显分解,如果不采取一些特殊的措施就很难使氮化硅陶瓷得到致密化无压烧结氮化硅陶瓷的关键在于烧结助剂的选择,对此人们已经做了大量的研究工作,并且取得了很大的进展。
加工过程非接触抛光是指工件与抛光盘在抛光过程中不发生接触,采用非接触抛光加工方法,使用聚氨基甲酸脂球为工具,利用ZrO2微粉加工单晶硅,表面粗糙度Rz达0.5nm利用非接触抛光加工蓝宝石(001)面,其表面粗糙度Rz可达0.08nm。</a>

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