产品别名 |
纳米平台,三轴纳米平台 |
面向地区 |
Aerotech qnp2 双轴压电纳米定位平台
关键词：纳米定位平台/压电平台/压电双轴定位平台
QNP2系列XY并联运动压电定位平台在紧凑，小巧的封装中结合了亚纳米级分辨率，高动态性能和出色的几何性能。QNP2系列压电平台具有大的，清晰的孔径，闭环行程可达200 µm x 200 µm（开环行程为240 µm x 240 µm）。该设计非常适合光学显微镜，扫描探针显微镜，X射线透射显微镜或需要两侧零件访问的其他检查或制造应用。
XY双轴压电陶瓷平台：
移至240 µm x 240 µm
大方形透明光圈，70 mm x 70 mm
通过并联运动设计实现出色的多轴精度
高刚度和动态特性，可实现高工艺产量
，无摩擦的挠性导向
正在申请专利的设计提供了的几何性能
设备寿命长
具有直接计量电容传感器的出色定位分辨率和线性度
开环和真空版本
Mechanical Specifications
Model | QNP2-100XYA-030 | QNP2-100XYA-100 | QNP2-150XYA-200 | |
Closed-Loop Travel (X x Y) | 30 μm x 30 μm | 100 µm x 100 µm | 200 µm x 200 µm | |
Open-Loop Travel, -30 to +150 V(1) | 36 μm x 36 μm | 120 µm x 120 µm | 240 µm x 240 µm | |
Resolution(2) | Closed-Loop | 0.1 nm | 0.30 nm | 0.40 nm |
Open-Loop | 0.03 nm | 0.15 nm | 0.20 nm | |
Linearity(3,4) | 0.02% | 0.01% | 0.01% | |
Bidirectional Repeatability(5) | 4 nm | 1 nm | 1 nm | |
Straightness | 25 nm | 10 nm | 10 nm | |
2D Flatness (Over Full XY Travel) | 15 nm | 5 nm | 15 nm | |
Pitch | 5 μrad (1 arc sec) | 1.5 µrad (0.3 arc sec) | 1.5 µrad (0.3 arc sec) | |
Yaw | 5 μrad (1 arc sec) | 12 µrad (2.5 arc sec) | 20 urad (4 arc sec) | |
Stiffness (in direction of motion)(6) | 33 N/μm | 2.1 N/µm | 1.7 N/µm | |
Unloaded Resonant Frequency(6) | 2400 Hz | 565 Hz | 375 Hz | |
Resonant Frequency (200 gram load)(6) | 1725 Hz | 380 Hz | 290 Hz | |
Max Payload(7) | 1 kg | 1 kg | 3 kg | |
Maximum Acceleration (Unloaded)(8) | 400 m/s2 | 170 m/s2 | 40 m/s2 | |
Moving Mass (Unloaded) | 0.14 kg | 0.14 kg | 0.5 kg | |
Stage Mass | 0.36 kg | 0.48 kg | 1.2 kg | |
Material | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | |
MTBF (Mean Time Between Failure) | 30,000 hours | 30,000 hours | 30,000 hours | |
XYZ双轴压电陶瓷平台：
QNP3系列XYZ并联运动压电定位平台在紧凑的小尺寸封装中结合了亚纳米分辨率，高动态特性和出色的几何性能。QNP3系列压电平台具有大的，清晰的孔径，闭环行程可达200 µm x 200 µm x 20 µm（开环行程为240 µm x 240 µm x 25 µm）。该设计非常适合光学和扫描探针显微镜或其他检查或制造应用，这些应用需要通过三个DoF操作来进行两侧零件的访问。
移至240μmx 240μmx 25μm
大方形透明光圈，可达66 mm x 66 mm
通过平行运动设计实现出色的多轴精度
高刚度和动态特性，可实现高工艺产量
，无摩擦的挠性导向
正在申请专利的设计提供了的几何性能
设备寿命长
具有直接计量电容传感器的出色定位分辨率和线性度
开环和真空版本
Model | QNP3-100XYAZ-030-10 | QNP3-100XYAZ-100-10 | QNP3-150XYAZ-200-20 | |
Closed-Loop Travel (X x Y x Z) | 30 μm x 30 μm x 10 μm | 100 µm x 100 µm x 10 µm | 200 um x 200 um x 20 um | |
Open-Loop Travel, -30 to +150 V(1) | 36 μm x 36 μm x 12 μm | 120 µm x 120 µm x 12 µm | 240 um x 240 um x 25 um | |
Resolution(2) | Closed-Loop | 0.1 nm (XY); 0.15 nm (Z) | 0.30 nm (XY); 0.15 nm (Z) | 0.4 nm (XY), 0.15 nm (Z) |
Open-Loop | 0.03 nm (XY); 0.05 nm (Z) | 0.15 nm (XY); 0.05 nm (Z) | 0.2 nm (XY), 0.1 nm (Z) | |
Linearity(3,4) | 0.02% (XY); 0.04% (Z) | 0.01% (XY); 0.02% (Z) | 0.01% (XY); 0.02% (Z) | |
Bidirectional Repeatability(5) | 4 nm (XY); 3 nm (Z) | 2 nm (XY); 1 nm (Z) | 2 nm (XY); 2 nm (Z) | |
Straightness | 25 nm (XY); 50 nm (Z) | <10 nm (xy); <20 nm (z) | 10 nm (XY); 40 nm (Z) | |
2D Flatness (Over Full XY Travel) | 10 nm | <5 nm | <10 nm | |
Pitch | 10 μrad (2.1 arc sec) (XY) 6 μrad (1.2 arc sec) (Z) | 2 µrad (0.4 arc sec) (XY); 6 µrad (1.2 arc sec) (Z) | 2 urad (0.4 arcsec) (XY); 6 urad (1.2 arcsec) (Z) | |
Yaw | 5 μrad (1 arc sec) (XY) 5 μrad (1 arc sec) (Z) | 10 µrad (2.1 arc sec) (XY); 5 µrad (1 arc sec) (Z) | 20 urad (4 arcsec) (XY); 6 urad (1.2 arcsec) (Z) | |
Stiffness (in direction of motion)(6) | 10 N/μm (XY); 25 N/μm (Z) | 1.9 N/µm (XY); 13 N/µm (Z) | 1.3 N/µm (XY); 8.7 N/um (Z) | |
Unloaded Resonant Frequency(6) | 1850 Hz (XY); 2200 Hz (Z) | 490 Hz (XY); 1425 Hz (Z) | 330 Hz (XY); 910 Hz (Z) | |
Resonant Frequency (200 gram load)(6) | 950 Hz (XY); 1390 Hz (Z) | 350 Hz (XY); 910 Hz (Z) | 260 Hz (XY); 670 Hz (Z) | |
Max Payload(7) | 1 kg | 1 kg | 3 kg | |
Max Acceleration (Unloaded)(8) | 400 m/s2 (XY); 2000 m/s2 (Z) | 115 m/s2 (XY); 2000 m/s2 (Z) | 35 m/s2 (XY); 1000 m/s2 | |
Moving Mass (Unloaded) | 0.24 kg (XY); 0.05 kg (Z) | 0.21 kg (XY); 0.05 kg (Z) | 0.58 kg (XY); 0.10 kg | |
Stage Mass | 0.53 kg | 0.56 kg | 1.3 kg | |
Material | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | |
MTBF (Mean Time Between Failure) | 30,000 Hours | 30,000 Hours | 30,000 Hours | |
精密并联运动设计
QNP2压电位移台采用平行运动的弯曲和计量设计，可确保水平的多轴精度。借助经过FEA优化的精密挠曲，以确保高刚度和长使用寿命，QNP2位移台具有的刚度和共振频率，从而实现了高工艺通量和快速的闭环响应。
使用正在申请专利的驱动器设计，可将偏航误差小化，同时仍保持符合Abbe标准的计量系统。这种设计可在整个XY行程空间内实现的定位性能。
亚纳米性能
所有QNP2压电级均可提供闭环反馈（-C）或开环（无反馈）。特的电容传感器并行测量设计可测量定位支架的输出，直接实现亚纳米分辨率，低于0.01％的线性误差和一位数纳米可重复性。
超精密控制
与Aerotech的Q系列控制器和驱动器配合使用时，QNP2位移台具有亚纳米级的定位分辨率，在位稳定性（抖动）和高定位带宽。诸如Aerotech的Dynamic Controls Toolbox和Motion Designer软件包之类的软件选件提供了许多而易于使用的工具，例如Learning Control，Harmonic Cancellation和Command Shaping，从而改善了跟踪误差并缩短了分步和稳定时间。还提供OEM驱动器选件。Aerotech的控制器架构可轻松实现压电平台，伺服系统，步进器和振镜之间的高速，严格控制的协调运动。
设计方案
可选的安装板可直接安装到英制或公制面包板光学平台上。固态桌面选项也是可用的。QNP2压电平台可根据要求提供定制材料和真空制备版本。
更多产品信息联系：于先生 （同）
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